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石川県次世代産業育成講座「高性能吸着剤「ハスクレイ」の開発経緯とその応用展開」

印刷用ページを表示する更新日:2018年5月15日更新

講演会・研修会

開催日 2018年6月28日
開催時間 14時00分から16時00分
開催場所 トライアルセンター第2研修室(石川県工業試験場 5階:金沢市鞍月2丁目1番地)
主催者 (公財)石川県産業創出支援機構、協力:石川県工業試験場
料金 有料
1,000円(当日ご持参ください)
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添付ファイル

開催概要

石川県次世代産業育成講座・新技術セミナー
「高性能吸着剤「ハスクレイ」の開発経緯とその応用展開」

天然の多孔質材料である「イモゴライト」の吸放湿性に着目し、実用化が可能な安価な材料を用いた高性能吸着剤「ハスクレイ」の合成に成功しました。
本講座では、近年の省エネ・環境意識の高まりによりその応用展開として、デシカント空調用水蒸気吸着材や園芸栽培用二酸化炭素吸着材、さらに低温廃熱に適応可能な蓄熱材としての応用事例について紹介します。
多数ご参加くださいますようお願いいたします。
 
 日時  
平成30年6月28日(木)14時00分~16時00分

 場所
トライアルセンター 第2研修室(石川県工業試験場5階:金沢市鞍月2丁目1番地)

 講師
国立研究開発法人 産業技術総合研究所
地圏資源環境研究部門 研究グループ長 鈴木 正哉 氏

 受講料
1,000円(当日ご持参ください)

 定員  
20名

 担当  
石川県工業試験場 化学食品部 専門研究員 佐々木直哉

申し込み方法

備考欄の事項をFAXまたはEメールでお申し込みください

申込締切

平成30年6月21日(木)(定員になり次第締切ります)

備考

石川県次世代産業育成講座・新技術セミナー 受講申込
「高性能吸着剤「ハスクレイ」の開発経緯とその応用展開」

日時 : 平成30年6月28日(木) 14時00分~16時00分
場所 : トライアルセンター 第2研修室 (石川県工業試験場5階:金沢市鞍月2丁目1番地)

申込メールは seminar@irii.jp


【会 社 名】

【住  所】〒

【受講者名】

【所属・役職】

【TEL】

【FAX】

【e-mail】

お問合せ

機関・企業名 (公財)石川県産業創出支援機構
部署
産業振興部
担当 次世代講座担当 中野
郵便番号 920-8203
住所 石川県金沢市鞍月2-1(石川県工業試験場 企画指導部内)
TEL 076-267-8081
FAX 076-267-8090
E-mail seminar@irii.jp