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石川県次世代産業育成講座「新型半導体活用上の勘所と電源開発の動向」

印刷用ページを表示する更新日:2019年12月18日更新

講演会・研修会

開催日 2020年2月19日
開催時間 13時30分~16時00分
開催場所 トライアルセンター第2研修室 (石川県工業試験場 5階:金沢市鞍月2丁目1番地)
主催者 (公財)石川県産業創出支援機構、協力:石川県工業試験場
料金 有料
1,000円(当日ご持参ください)
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添付ファイル

開催概要

石川県次世代産業育成講座・新技術セミナー
「新型半導体活用上の勘所と電源開発の動向」

省エネルギーは、すべてのアプリケーションの必須条件であり、特に電源のようなパワーアプリケーションでは、電力損失の軽減や小型化のためのデバイス開発と回路開発が重要になります。
本講座では、ダイオードやトランジスタなどのディスクリートパワーデバイスについて、従来のSi(シリコン)に加え、新型のSiC(シリコンカーバイド)について紹介します。さらに、電源開発に役立つ知識とノウハウを解説します。
多数ご参加くださいますようお願いいたします。
 
 日時
令和2年2月19日(水) 13時30分~16時00分

 場所
トライアルセンター 第2研修室
(石川県工業試験場 5階:金沢市鞍月2丁目1番地)

 講師
ローム株式会社 パワーデバイス生産本部 
大森 脩平 氏

 受講料  
1,000円(当日ご持参ください)

 定員
20名

 担当
石川県工業試験場 電子情報部 技師 森田 正樹

申し込み方法

備考欄の事項をFAXまたはEメールでお申し込みください

申込締切

令和2年2月12日(水)(定員になり次第締切ります)

備考

石川県次世代産業育成講座・新技術セミナー 受講申込
「新型半導体活用上の勘所と電源開発の動向」

日時 : 令和2年2月19日(水) 13時30分~16時00分
場所 : トライアルセンター 第2研修室 (石川県工業試験場 5階:金沢市鞍月2丁目1番地)

申込メールは seminar@irii.jp


【会 社 名】

【住  所】〒

【受講者名】

【所属・役職】

【TEL】

【FAX】

【e-mail】

お問合せ

機関・企業名 (公財)石川県産業創出支援機構
部署
産業振興部
担当 次世代講座担当 中野
郵便番号 920-8203
住所 石川県金沢市鞍月2-1(石川県工業試験場 企画指導部内)
TEL 076-267-8081
FAX 076-267-8090
E-mail seminar@irii.jp