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| 開催日 | 2024年3月25日 | 
|---|---|
| 開催時間 | 13時から17時 | 
| 開催場所 | 金沢大学角間キャンパス 自然科学本館3階 遠隔講義室とZoomによるハイブリッド形式 | 
| 主催者 | 金沢大学設計製造技術研究所 | 
| 料金 | 無料 | 
| 関連URL | 関連URLを開く | 
| 添付ファイル | 
 形式
形式
対面とZoomによるハイブリッド形式
※対面の定員は30名
 言語
言語
英語およびZoom機能の自動翻訳機能による日本語
注意事項: 講演の写真撮影や録画録音は禁止です
 開催の挨拶 13時00分
開催の挨拶 13時00分
中村慎一 金沢大学理事(研究・社会共創・大学院支援担当)/副学長
 第一部
第一部
13時05分 ~ 13時55分
講師:ヒラノテクシード 執行役員 津田 武明 氏
題目:『塗布流れ解析の進歩と展望』
概要:
コーティングプロセスは、エレクトロニクス、光学素子、エネルギー貯蔵などの製造のための薄膜作成に広く使用されている。
最近では、世界的なメガ市場であるEVの電池製造にもその利点が生かされている。これまでの歴史が示すように、コーティングの進歩は理論的アプローチ、特にコーティング流動解析なしには達成できなかった。
本講演では、コーティング流動解析の進歩と展望に焦点を当てたい。
14時05分 ~ 14時55分
講師:プロダクトイノベーション協会
           主任研究員 辰巳 怜 氏
題目:『微粒子分散液の塗布乾燥の微視的数値シミュレーション』
概要:
粒子分散液の塗布・乾燥による機能材料の作製プロセスの制御には、粒子分散液の特異な流動・乾燥挙動の理解が不可欠である。
流体中の粒子運動を解析する微視的な数値シミュレーションを用いて得てきた知見を解説する。
休憩 14時55分~15時05分
 第二部
第二部
15時05分 ~ 15時55分
講師:京都大学化学研究所 助教 佐藤 健 氏
題目:『新しいプロセス設計の実現に向けた複雑流体のマルチ
スケールシミュレーション』
概要:
高分子流体を始めとする複雑流体は、流体を構成する要素のサイズが大きく、ミクロ・メソ・マクロスケールの時空間的な階層性を持つ。
このような流体の流動挙動を予測および理解し、合理的に化学プロセスを設計するためには、異なる階層間を連携するマルチスケールシミュレーションの考え方が有効である。
本講演では、近年盛んに研究されているデータ駆動の方法にも触れつつ、高分子流体のマルチスケールシミュレーション法の研究を紹介する。
16時05分 ~ 16時55分
講師:金沢大学設計製造技術研究所 准教授 吉元 健治
題目:『相分離を用いた次世代高分子材料・プロセスのデジタル設計』
概要:
半導体製造プロセスに用いられる「ブロックコポリマーの誘導自己組織化(DSA)」及び高分子分離膜の代表的な製法である「非溶媒誘起相分離(NIPS)」
を対象に、これまで実施したシミュレーションによる相分離構造の予測と制御について紹介する。
 閉会の挨拶 16時55分
閉会の挨拶 16時55分
喜成年泰 設計製造技術研究所 所長
グーグルフォームまたはQRコードにてお申し込みください。
Webアクセス先を事前連絡する必要がありますので、受付は3月20日(水)までとさせていただきます。
Webアクセス先は3月22日(金)を目途にメールでご連絡いたします。
グーグルフォーム
 https://forms.gle/m8G6tGh5tY7Tpstz6
https://forms.gle/m8G6tGh5tY7Tpstz6
*ホームページ:シンポジウム案内記事にある【お申し込みフォーム】からもお申し込みいただけます。
  http://amti.w3.kanazawa-u.ac.jp/
http://amti.w3.kanazawa-u.ac.jp/
| 機関・企業名 | 金沢大学設計製造技術研究所 | 
|---|---|
| 部署 | |
| 担当 | 瀧 | 
| 郵便番号 | |
| 住所 | |
| TEL | 076-264-6257 | 
| FAX | |
| taki@se.kanazawa-u.ac.jp |