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| 開催日 | 2026年6月17日 |
|---|---|
| 開催時間 | 14時00分~16時30分 |
| 開催場所 | 石川県工業試験場5階石川トライアルセンター第2研修室 |
| 主催者 | (公財)石川県産業創出支援機構、協力:石川県工業試験場 |
| 料金 | 有料 1,000円(当日、ご持参ください。) |
| 関連URL | 関連URLを開く |
| 添付ファイル |
セラミックス材料は、半導体やエネルギー、環境分野など、さまざまな産業で広く使われており、その性能は製造プロセス技術によって大きく左右されます。近年、製品の高性能化や安定した生産を実現するため、製造技術の重要性はますます高まっています。
本講演では、セラミックスの高性能化や安定生産に役立つ最新の製造技術について、造粒、鋳込み成形、3D積層造形、CVD膜形成といった代表的なプロセスを取り上げ、それぞれの特徴や最新の動向、実際の応用事例をわかりやすく解説します。
日 時: 令和8年6月17日(火) 14時00分~16時30分
場 所: 石川県工業試験場5階石川トライアルセンター第2研修室
講 師: 国立研究開発法人産業技術総合研究所 中部センター
マルチマテリアル研究部門
グループ長 嶋村 彰紘 氏
上級主任研究員 近藤 直樹 氏
主任研究員 且井 宏和 氏
受講料: 1,000円(当日ご持参ください。)
定 員: 20名程度
担 当: 石川県工業試験場 化学食品部 研究員 竹田大樹
申し込みフォームからお申し込みください
| 機関・企業名 | (公財)石川県産業創出支援機構 |
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| 部署 | 成長プロジェクト推進部
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| 担当 | 次世代講座担当 北川、吉本 |
| 郵便番号 | 920-8203 |
| 住所 | 石川県金沢市鞍月2-1(石川県工業試験場 企画指導部内) |
| TEL | 076-267-8081 |
| FAX | 076-267-8090 |
| j-seminar[at]isico.or.jp ※[at]の部分を@に置き換えてください |